本文へジャンプ

第1回「後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発」(中間評価)分科会

2012年11月2日

委員会概要

日時 平成24年7月9日(月) 10時00分~18時00分
場所 WTCコンファレンスセンター RoomA (世界貿易センタービル3F)
担当部室 評価部
FAX 044-520-5162
公開の可否 原則公開
プロジェクトコード P10005

資料

配布資料

資料名 ファイルダウンロード
議事次第
資料1-1 研究評価委員会分科会の設置について
資料1-2 NEDO技術委員・技術委員会等規程
資料2-1 研究評価委員会分科会の公開について(案)
資料2-2 研究評価委員会関係の公開について
資料2-3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘について
資料2-4 研究評価委員会分科会における非公開資料の取り扱いについて
資料3-1 NEDOにおける研究評価について
資料3-2 技術評価実施規程
資料3-3 評価項目・評価基準
資料3-4 評点法の実施について(案)
資料3-5 評価コメント及び評点票(案)
資料4 評価報告書の構成について(案)
資料5-1 事業原簿(公開)

資料5-2 事業原簿(非公開)

(非公開)

資料5-3 プロジェクトの概要説明資料(公開)

資料6-1~6-3 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)

(非公開)

資料7 今後の予定

その他資料

資料名 ファイルダウンロード
議事要旨
議事録