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第1回「次世代素材等レーザー加工技術開発プロジェクト」 (中間評価)分科会

2012年9月28日

委員会概要

日時 平成24年8月3日(金) 10時20分~17時45分
場所 WTCコンファレンスセンター Room A 世界貿易センタービル3F
担当部室 評価部
FAX 044-520-5162
公開の可否 原則公開
プロジェクトコード P10006

資料

配布資料

資料名 ファイルダウンロード
議事次第
資料1-1 研究評価委員会分科会の設置について
資料1-2 NEDO技術委員・技術委員会等規程
資料2-1 研究評価委員会分科会の公開について(案)
資料2-2 研究評価委員会関係の公開について
資料2-3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘について
資料2-4 研究評価委員会分科会における非公開資料の取り扱いについて
資料3-1 NEDOにおける研究評価について
資料3-2 技術評価実施規程
資料3-3 評価項目・評価基準
資料3-4 評点法の実施について(案)
資料3-5 評価コメント及び評点票(案)
資料4  評価報告書の構成について(案)
資料5-1 事業原簿(公開)本文[1](表紙~III-7-5)
資料5-1 事業原簿(公開)本文[2](III-8-1~III-18-3)
資料5-1 事業原簿(公開)本文[3](III-19-1~添付資料3)
資料5-2 事業原簿(非公開) (非公開)
資料6 プロジェクトの概要説明資料(公開)
資料7-1-1 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        高出力半導体レーザー開発
資料7-1-2 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        増幅技術開発と波長変換技術開発
資料7-1-3 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        QCWファイバーレーザー開発
資料7-1-4 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        多波長複合照射加工技術開発
資料7-1-5 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        普及促進の取り組み
(非公開)
資料7-2-1 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        アニール用レーザー開発
資料7-2-2 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        アニール用システム開発
資料7-2-3 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        普及促進の取り組み
(非公開)
資料7-3-1 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        粉末成形用レーザー開発
資料7-3-2 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        粉末成形システム開発
資料7-3-3 プロジェクトの詳細説明資料(非公開)
        普及促進の取り組み
(非公開)
資料8 今後の予定

その他資料

資料名 ファイルダウンロード
議事要旨
議事録