「後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発」（事後評価）分科会
2015年7月3日
| 平成27年7月28日 | 議事録を追加掲載しました。 |
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| 平成27年7月22日 | 資料5、資料7を追加掲載しました。 |
委員会概要
| 日時 | 平成27年6月5日（金） 10時00分～17時15分 |
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| 場所 | WTCコンファレンスセンター Room A 世界貿易センタービル3階 |
| プロジェクトコード | P10005 |
資料
配布資料
| 資料名 | ファイル名 |
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| 議事次第 |
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| 資料1 研究評価委員会分科会の設置について |
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| 資料2 研究評価委員会の公開について |
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資料3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘と非公開資料の取り扱いについて
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| 資料4-1 NEDOにおける研究評価について 資料4-2 評価項目・評価基準 資料4-3 評点法の実施について 資料4-4 評価コメント及び評点票 資料4-5 評価報告書の構成について |
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| 資料5 プロジェクトの概要説明資料（公開） |
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| 資料6 プロジェクトの概要説明資料（非公開） | （非公開） |
| 資料7 事業原簿（公開） |
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| 資料8 今後の予定 |
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| 参考資料1 NEDO技術委員・技術委員会等規程 |
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| 参考資料2 技術評価実施規程 |
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その他資料
問い合わせ先
資料5～資料7について
ロボット・機械システム部 FAX：044-520-5243
上記以外について
評価部 FAX：044-520-5162