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研究評価委員会「次世代材料評価基盤技術開発/有機EL材料の評価基盤技術開発」(事後評価)分科会

平成28年12月28日
情報を更新しました
平成29年1月19日 議事録を追加掲載しました。
平成29年1月13日 資料5-1、資料6-1、資料6-2を追加掲載しました。

委員会概要

日時 平成28年12月6日(火) 9時30分~17時00分
場所 国立研究開発法人 産業技術総合研究所
つくば中央第5 5-2棟 6階 6602-03室
プロジェクトコード P10029

資料

配布資料
資料名 ファイル名
議事次第
資料1 研究評価委員会分科会の設置について
資料2 研究評価委員会の公開について
資料3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘と非公開資料の取り扱いについて
資料4-1 NEDOにおける研究評価について
資料4-2 評価項目・評価基準
資料4-3 評点法の実施について
資料4-4 評価コメント及び評点票
資料4-5 評価報告書の構成について
資料5-1 事業原簿(公開)
資料5-2 事業原簿(非公開) (非公開)
資料6-1 プロジェクトの概要説明資料「事業の位置付け・必要性」「研究開発マネジメント」について(公開)
資料6-2 プロジェクトの概要説明資料「研究開発成果」「成果の実用化に向けた取り組み及び見通し」について(公開)
資料7 プロジェクトの詳細説明資料(非公開) (非公開)
資料8 プロジェクトの詳細説明資料(非公開) (非公開)
資料9 今後の予定
参考資料1 NEDO技術委員・技術委員会等規程
参考資料2 技術評価実施規程

その他の資料

資料名 ファイル名
議事要旨
議事録
現地調査会議事要旨

問い合わせ先

資料5~資料8について

材料・ナノテクノロジー部 FAX 044-520-5223­

上記以外について

評価部 FAX:044-520-5162­