成果報告書詳細
管理番号20110000000445
タイトル平成21年度成果報告書 平成21年度第1回採択産業技術研究助成事業 09A18009a エバネッセント局在フォトンの三次元アクティブ制御による微細加工・計測複合システムの開発 平成21年度中間
公開日2011/9/28
報告書年度2009 - 2009
委託先名国立大学法人東京大学高橋哲
プロジェクト番号P00041
部署名研究開発推進部
和文要約定在エバネッセント場のナノシフトによる面内解像特性解析を進め、その超解像計測性を理論・実験の両面から検証し、レイリー限界を超越した解像特性を有することを明らかにした。また加工対象として、マイクロ光造形等で実績のある光硬化性樹脂を取り上げ、エバネッセント局在フォトンに対する加工メカニズムを明らかにすると同時に、溶存酸素分布に着目することにより、エバネッセント光による新しい露光法を提案、その有効性を検証し、特許申請を行った。加えて,エバネッセント局在フォトンによる加工および計測の複合が可能な高NA対物レインズベースの光学構成を考案し、その具体的な仕様を策定した。
英文要約A lateral resolution characteristics using nano-shift of standing evanescent wave were theoretically and experimentally analyzed and its super-resolution capacity beyond the Rayleigh limit was verified.
A curing mechanism of evanescent light energy for photosensitive resin, which had been employed for a micro stereolithography, was confirmed. And a novel exposure method by evanescent light based on the dissolved oxygen control was proposed and its feasibility was verified. This invention was applied for the patent.
A hybrid optical system for nano fabrication and measurement was introduced and designed using a high numerical aperture objective.
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