成果報告書詳細
管理番号20110000001624
タイトル平成21年度~平成22年度成果報告書 平成21年度第1回採択産業技術研究助成事業 09A18009a エバネッセント局在フォトンの三次元アクティブ制御による微細加工・計測複合システムの開発 平成22年度最終
公開日2012/3/13
報告書年度2009 - 2010
委託先名国立大学法人東京大学高橋哲
プロジェクト番号P00041
部署名技術開発推進部
和文要約基礎実験結果に基づき,エバネッセント局在フォトンを露光エネルギーとしたナノ光造形装置を試作し,提案手法を実用化する上で最も重要な機能に相当する,面内形状制御剥離積層プロセスが実現できることを示した.また,本造形法に融合可能なインプロセス計測法として,深度方向情報取得のための基礎技術を確立するとともに,申請研究の応用展開について検討を進めた.
英文要約Based on the fundamental experiments, we developed a nano-stereolithography system, which allows a special exposure using the evanescent localized photon. We verified that the developed system can provide a layer-by-layer lamination process with controlling a lateral shape of a cured resin with a layer thickness less than 100nm. Further, we proposed a height information measurement method using an evanescent light response, which have a special affinity with being used for an in-process measurement of the proposed nano-stereolithography method.
ダウンロード成果報告書データベース(ユーザ登録必須)から、ダウンロードしてください。

▲トップに戻る