成果報告書詳細
管理番号20120000000553
タイトル*平成23年度中間年報 太陽エネルギー技術研究開発 太陽光発電システム次世代高性能技術の開発 極限シリコン結晶太陽電池の研究開発(太陽電池向け100μmウェーハの効率的加工技術の構築)
公開日2012/12/21
報告書年度2011-2011
委託先名コマツNTC株式会社
プロジェクト番号P07015
部署名新エネルギー部
和文要約和文要約等以下本編抜粋:[記載項目]
1. 研究開発の内容及び成果等
1-1研究開発の目標
1 薄板ウェーハの高歩留まり生産技術の確立
(目標)マルチワイヤソーによるスライス加工において100μmウェーハが歩留まり95%以上で生産可能となる技術を確立する
英文要約Title: Construction of efficient processing technology of 100μm wafer for Photovoltaic (FY2010-FY2012) FY2011 Annual Report
The purpose of our research and development is slice technology establishment of the amount of the material use of 40% that can be reduced. (Compared with 2010) Concretely, it is an end goal to establish processing conditions that become possible for 100μm wafer to process the slice with 100μm karfloss. We carried it out with the cut of the 120μm wafer in this year. As a result, the yield was good and demonstrated that I could process it. We carried out an examination mainly on the processing using the wire of calf loss 100μm (core line 80μm). (ingot 100mm in length). As a result, We were able to achieve the processing at 95% or more of yield, and to be able to reduce karfloss.
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