本文へジャンプ

成果報告書詳細
管理番号20170000000169
タイトル平成28年度成果報告書 研究開発型ベンチャー支援事業/SUIによる企業化可能性調査等の実施/革新的電子ビーム技術の事業化
公開日2017/8/30
報告書年度2016 - 2016
委託先名株式会社Photo electron Soul
プロジェクト番号P14012
部署名イノベーション推進部
和文要約件名:平成28年度成果報告書 研究開発型ベンチャー支援事業
SUIによる企業化可能性調査等の実施
革新的電子ビーム技術の事業化

 電子ビームは、ナノレベルでの観測(見る)、加工(作る)に用いられており、電子顕微鏡、金属3Dプリンタ、半導体デバイス製造・検査装置等の様々な産業機器に搭載され、広範な分野を支える基盤技術である。しかしながら、基盤技術であるにも関わらず、産業用の電子ビームは、長年に渡ってその生成原理が変わっておらず、その性能向上は限界に近づいている。このような中、当社は従来の電子ビームでは不可能な高性能かつ多彩な(大電流かつ低分散、パルス構造など)、次世代の電子ビームを生成できる半導体フォトカソード技術を事業化することで、従来の電子ビーム技術を刷新し、新たな「見る」、「作る」の世界を創造する。
 本事業では技術開発として、電子ビームの基本性能である電流値の向上、および半導体フォトカソードの高耐久化について開発を行った。
 電流値については、電子ビーム生成装置の各コンポーネントを精査することで、ミリアンペアクラスの実現を可能とする電極構造・材料、真空度、およびカソードへの照射光の各々に関し、適した条件と設計を明らかにすることができた。半導体フォトカソードの耐久性については、材料や結晶成長条件等を種々検討することで、12時間以上の耐久性を持つ半導体フォトカソードを作製するための材料・作成条件を得ることができた。
 また事業開発として、研究開発型スタートアップとして5年後のExitを目指すビジネスプランの選定に取り組んだ。ビジネスプラン仮説について、顧客候補へのヒアリングを進め、顧客ペインと当社製品・サービスによる解決性や、収益性等が妥当であるかなどについて検証・修正を行った。その結果、対価を支払ってでも解決したいペインを有し、十分な収益性・成長性が期待できるという観点から、電子ビームによるナノ観測市場へのビジネスプランを選定するに至った。
英文要約Title: Technology-based startup support program. Feasibility studies on commercialization etc. based on startup innovator support project. Commercialization of the innovative electron beam technology (FY2016) Final Report

Our mission is to open up the new world of fine observation and fabrication by innovation of electron beam.
Electron beam is a key element in fine observation and fabrication, and used in various industrial applications, such as electron microscopy, semiconductor inspection, and metal 3D printing. In spite of its importance, fundamental principles of electron beam generation have not been changed over several decades, and performances are reaching the limit.
We are developing and commercializing the next generation electron beam based on semiconductor photocathode technologies. Our technologies can provide overwhelmingly high performance electron beams in coherence, electrical current, and beam shapes (e.g. pulse beam). We will realize the fine observation and manufacturing you’ve never obtained before.
In the present NEDO SUI project, the technological development was aimed at high beam current and high durability of semiconductor photocathodes. For the high beam current, conditions and designs of the components, including electrode, degree of vacuum, and laser system, were optimized to obtain the mA-class electron beam. For the high durability of semiconductor photocathodes, materials and conditions for crystal growth was optimized to manufacture the semiconductor photocathode which durability is more than 12 hours.
In addition to the technological development, the market researches and marketing activities were carried out to select the business plan which will leads the exit after 5 years. Through interview of the potential customers, hypotheses of business plan, which include profitability and fitting between customers’ pain and our solutions, were tested and modified. As a result, the business plan in the fine observation market was selected.
ダウンロード成果報告書データベース(ユーザ登録必須)から、ダウンロードしてください。

▲トップに戻る