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「OPIE'21」への出展

2021年6月23日

情報を更新しました
2021年8月4日 バーチャルブースを公開しました。

国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)は、6月30日(水)から7月2日(金)までパシフィコ横浜で開催されるOPIE'21に以下のテーマで出展します。

展示概要

NEDOは、「光が創る、未来を拓く ―ものづくりを変えるNEDOのレーザー加工技術―」をテーマに、NEDOプロジェクト「高輝度・高効率次世代レーザー技術開発」に参画する20法人の最新の研究開発成果を紹介します。

NEDOブースでは、レーザー光源、レーザー加工機、レーザー加工評価装置などの最先端レーザー加工技術のデモンストレーションや、加工サンプル実物の展示を行います。

  • 日時:2021年6月30日(水)~7月2日(金)各日10時00分~17時00分
  • 場所:パシフィコ横浜 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1
    NEDOブース小間番号:展示ホールC、D F-41
  • 主催:一般社団法人OPI協議会
    別ウィンドウが開きます OPIE'21公式ウェブサイト

NEDOブースの展示テーマ一覧

テーマ名一覧
項目 テーマ名 出展者名
共通基盤 次世代レーザー及び加工の共通基盤技術開発 東京大学光量子科学連携研究機構、(国研)産業技術総合研究所
実用化1 高品位レーザー加工技術の開発 大阪大学レーザー科学研究所、スペクトロニクス(株)、三菱電機(株)
実用化2 高出力レーザーによる加工技術の開発 浜松ホトニクス(株)、大阪大学レーザー科学研究所、(国研)産業技術総合研究所
実用化3-A 革新的小型・高効率UVレーザー光源の開発 (株)金門光波、千葉工業大学、(公財)レーザー技術総合研究所
実用化3-B 高効率加工用GaN系高出力・高ビーム品質半導体レーザーの開発 パナソニック(株)、パナソニック スマートファクトリーソリューションズ(株)
実用化3-C 極短波長領域のハイブリッドArFレーザー加工技術の開発 ギガフォトン(株)
実用化3-D 高輝度青色半導体レーザー及び加工技術の開発 大阪大学接合科学研究所、(株)島津製作所
次々世代-A フォトニック結晶レーザーの短パルス化・短波長化 京都大学、スタンレー電気(株)
次々世代-B 高品質AlN結晶基板を用いた最短波長領域高出力深紫外LDの研究開発 (国研)理化学研究所、山口大学
次々世代-C 高出力・高ビーム品質動作を可能とする新型面発光レーザーの研究開発 富士フイルムビジネスイノベーション(株)、東京工業大学
次々世代-D 超高速利得スイッチLDをシードとするレーザー加工用光源の開発 東京大学物性研究所
次々世代-E 高効率・高出力量子ドットレーザーの研究開発 東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構、三菱電機(株)
次々世代-F 分子振動を利用する高効率加工プロセス用中赤外高出力レーザー光源開発 (国研)産業技術総合研究所、(大共)高エネルギー加速器研究機構、浜松ホトニクス(株)

バーチャルブース

3Dモデリング撮影したNEDOブースを2021年11月2日までの期間限定で公開します。

実際の展示会場を歩いているような感覚で各展示物や動画、リーフレットをご覧いただけますので、展示会場へ直接お越しいただけなかった方や情報を収集しきれなかった方はぜひご活用ください。

連絡先

電話番号 044-520-5211
FAX番号 044-520-5212
担当者 柿沼、熊谷(伸)、矢田

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