成果報告書詳細
管理番号100013502
タイトル平成19年度成果報告書 平成18年度第1回採択産業技術研究助成事業 06B44215a ナノトランスファー法による高容量キャパシタ内蔵型多層回路基板の開発 平成19年度中間
公開日2009/3/27
報告書年度2007 - 2007
委託先名国立大学法人東京大学一木正聡
プロジェクト番号P00041
部署名研究開発推進部
和文要約転写プロセスにおける条件の最適化を検討し、それを明らかにした。また、電気特性に関して評価を行い、本プロセスの有効を示すことのできるデ-タを取得した。さらに、転写プロセスにおいて使用する素子ホルダの設計と試作を行い、プロセス装置に開発の足がかりを確立した。
英文要約The detail conditions of the releasing are obtained. The sample holder of the process facility is designed and produced. This results will be the base of the developing facility.
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