成果報告書詳細
管理番号20100000000044
タイトル平成20年度成果報告書 平成20年度第1回採択産業技術研究助成事業 08A20020c 立方晶窒化ホウ素コーティングを用いた難削材用ワイドユース超硬工具の開発 平成20年度中間
公開日2010/2/5
報告書年度2008 - 2008
委託先名国立大学法人九州大学堤井君元
プロジェクト番号P00041
部署名研究開発推進部 若手研究グラントグループ
和文要約(1)中間層を用いた成膜法の開発 適切な金属基材上で、無荷重下で無剥離のcBN膜を形成することができた。得られた膜の結晶性、純度はいずれも高いことが分かった。熱膨張係数が近いことに加え、窒化ホウ化物を形成し易い金属中間層を導入することが、cBN膜の密着性向上に有効であることが分かった。(2)中間層を用いない成膜法の開発 化学処理等を施した超硬合金基材上で、無荷重下で剥離が軽微なcBN膜を形成することができた。得られた膜の純度は比較的低いことが分かった。結果的に、硬く(-50 GPa)、厚く(-1μm)、無荷重下で無剥離なcBN膜が得られる中間層を見出した。
英文要約1. Development of cBN coatings with buffer layers  We succeeded in depositing adhesive cBN films under no load on some metal substrates. The films had high crystallinity and high phase-purity. It is effective to insert buffer layers of metals, which have thermal expansion coefficients close to the substrate materials and readily form boron-nitride alloys with the substrate materials.2. Development of cBN coatings without buffer layers  We succeeded in depositing low adhesive cBN films under no load on chemically-treated cemented tungsten carbide substrates. The films had relatively low phase-purity. In conclusion, we found the metals suitable to obtain hard, and thick, and, under no load, adhesive cBN films.
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