成果報告書詳細
管理番号20100000001172
タイトル平成21年度成果報告書 半導体の低電力化(微細化に伴う低電力化含む)に関する特許・論文技術動向調査
公開日2010/11/10
報告書年度2009 - 2009
委託先名トムソン・ロイター・プロフェッショナル株式会社
プロジェクト番号Q05011
部署名電子・情報技術開発部
和文要約調査は、半導体技術分野において、物理的限界が視野に入りつつある中、激しい技術開発競争に打ち勝つために必要な技術開発領域を見極めるため、日・欧・米・韓国・台湾を調査対象地域とし、1998年-2007年(論文は2008年まで)の情報について、特許および論文情報の技術動向調査・分析を実施した。具体的には、hp22nmを超えるリソグラフィ技術や微細化に伴う低電力化技術など、半導体の低消費電力化のための材料、プロセスおよびデバイス技術を中心に、半導体の低電力化に関する情報を定量的に調査し、産業界の技術動向について、その全体的な状況を明らかにすることを目的として調査を遂行した。
英文要約This research is conducted to find out necessary areas of technology development to succeed in intense technology competition in semiconductor industry. This report contains the analysis of patents and literature of Japan, Europe, US, Korea and Taiwan from 1998 to 2007 (Literature coverage is from 1998 to 2008). In particular, it focuses on executing the quantitative analysis of low-powered semiconductor technology such as over hp22nm lithography, miniaturization, materials, processes and devices. The goal of this research is clarifying whole situation of technology trend of semiconductor industry.
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