成果報告書詳細
管理番号20100000001512
タイトル平成20年度成果報告書 平成20年度第2回採択産業技術研究助成事業 08C46641c d電子系透明導電体群の開発 平成20年度中間
公開日2011/1/18
報告書年度2008 - 2008
委託先名国立大学法人東北大学一杉太郎
プロジェクト番号P00041
部署名研究開発推進部
和文要約TiO2につづく新たな透明導電体が存在すると考え、本研究では、いくつかの仮説を立てて物質の探索を行った。とくに、高屈折率を有するNb2O5に着目して、Nb酸化物の成膜プロセスを検討した結果、NbOx が高い電気伝導性(3×10^-3 Ohm cm) と高い可視光透明性(約70%) を併せ持つことを見出した。
作製プロセスとしては、まず、室温にてNbOx薄膜を石英ガラス基板上にスパッタ成膜する。この時点では、若干茶色がかった半透明薄膜であるが、1000℃で10 分間真空アニール処理することにより抵抗率が大幅に減少し、可視光透過率が約70%以上の薄青色薄膜となる。
スパッタターゲットはNbメタル、あるいはNbOx (x~2.4程度)でも良く、最も重要な成膜パラメータは、成膜中の酸素分圧制御である。
本物質はITOやTiO2透明導電体に見られない物性が期待され、それを活用した応用先の開拓を行う予定である。
英文要約In this study, we have fabricated and characterized NbOx thin films by means of magnetron sputtering. These films were deposited on glass substrates at room temperature followed by annealing at 1000oC in vacuum. The as-deposited NbOx showed high sheet resistance, ~10 GOhm. Subsequent annealing in vacuum, however, resulted in large decrease in the resistivity down to ~3×10^-3 Ohm cm, and was found to be independent of temperature, thereby indicating the transition to a metallic conductivity. Optical characterization showed high transparency (~70 %) in the visible, which strongly suggests that NbOx is the second compound found within the category of d-electron based transparent conductor.
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