成果報告書詳細
管理番号20100000002344
タイトル平成21年度成果報告書 平成21年度第1回採択産業技術研究助成事業 09A16003d UV硬化樹脂の光誘起相分離を利用した革新的フレキシブル低誘電率膜成形プロセスの開発 平成21年度中間
公開日2011/1/8
報告書年度2009 - 2009
委託先名国立大学法人京都大学瀧健太郎
プロジェクト番号P00041
部署名研究開発推進部
和文要約(1) ウレタン系材料についてフレキシブル低誘電率膜の作成に成功した。目標とする誘電率(2.5)に対して、それよりもよりよい電気特性が期待される誘電率2.4を達成することができた。
(2) 電子材料として広く使われているポリイミド高分子材料について、(1)とは異なる方法でフレキシブル低誘電率膜の作成に成功した。膜の誘電率は、ウレタン系よりもさらに低い1.3が得られた。
(3) (2)の成果については知財を京都大学から単独で申請した。同時に新聞発表もしたところ、海外を含めてこれまでに5社から連携について相談を受けた。また、そのうちの1社はさらに1社の民間企業や他の大学との連携の橋渡しをしたい旨の申し出があり、今後、連携が広がる可能性がある。
(4) 助成研究者が幹事を務めている化学工学会エレクトにクス部会において、本プロジェクトに関連した民間企業も含めたWGが発足し、実用化を目指した幅広い討議が行われている。
英文要約I. A low-k film of which dielectric constant was 2.4 was created from polyurethane diacrylate monomers in the developed process. The dielectric constant was better than the target value, 2.5.
II. Porous polyimide film of which dielectric constant was 1.3 was developed in another newly developed process.
III. A patent of the porous polyimide process was pending. Then, a press release was made through a newspaper. Five private companies are interested in our technology.
IV. A working group of the application of low-k film has been started in the “Electronics group” in the Society of Chemical Engineering, Japan.
ダウンロード成果報告書データベース(ユーザ登録必須)から、ダウンロードしてください。

▲トップに戻る