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研究評価委員会「次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発」(事後評価)分科会

2019年11月6日
情報を更新しました
2019年12月3日 議事録を追加掲載しました。
2019年11月19日 資料5、資料7を追加掲載しました。

委員会概要

日時 2019年10月28日(金) 10時00分~16時45分
場所 浜松町WTC Room A(世界貿易センタービル 3階)
プロジェクトコード P10026

資料

配布資料
資料名 ファイル名
議事次第
資料1 研究評価委員会分科会の設置について
資料2 研究評価委員会分科会の公開について
資料3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘と非公開資料の取り扱いについて
資料4-1 NEDOにおける研究評価について
資料4-2 評価項目・評価基準
資料4-3 評点法の実施について
資料4-4 評価コメント及び評点票
資料4-5 評価報告書の構成について
資料5 プロジェクトの概要説明資料(公開)
資料6 プロジェクトの詳細説明資料(非公開) (非公開)
資料7 事業原簿(公開)
資料8 今後の予定

その他資料

資料名 ファイル名
議事録
現地調査会議事要旨

問い合わせ先

資料5、資料7について

IoT推進部 FAX 044-520-5212­

上記以外について

評価部 FAX:044-520-5162­