第1回「ナノエレクトロニクス半導体新材料・新構造技術開発－窒化物系化合物半導体基板・エピタキシャル成長技術の開発」（中間評価）分科会

委員会概要

配布資料
	議事次第（70KB）
資料1-1	研究評価委員会分科会の設置について（99KB）
資料1-2	NEDO技術委員・技術委員会等規程（133KB）
資料2-1	研究評価委員会分科会の公開について（案）（87KB）
資料2-2	研究評価委員会関係の公開について（137KB）
資料2-3	研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘について（105KB）
資料2-4	研究評価委員会分科会における非公開資料の取り扱いについて（92KB）
資料3-1	NEDOにおける研究評価について（228KB）
資料3-2	技術評価実施規程（132KB）
資料3-3	評価項目・評価基準（134KB）
資料3-4	評点法の実施について（案）（164KB）
資料3-5	評価コメント及び評点票（案）（231KB）
資料4	評価報告書の構成について（案）（94KB）
資料5	事業原簿（公開） 5-1（7.39MB） 5-2（7.41MB） 5-3（5.94MB） 5-4（4.12MB）
資料6	プロジェクトの概要説明資料（公開）（4.59MB）
資料7	プロジェクトの詳細説明資料（公開）（4.54MB）
資料8	今後の予定（85KB）