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第1回「次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発」(中間評価)分科会

2013年12月20日

委員会概要

日時 平成25年9月5日(木) 10時00分~17時30分
場所 大手町サンスカイルーム A室
担当部室 評価部
FAX 044-520-5162
公開の可否 原則公開
プロジェクトコード P10026

資料

配布資料
資料名 ファイル名
議事次第
資料1-1 研究評価委員会分科会の設置について
資料1-2 NEDO技術委員・技術委員会等規程
資料2-1 研究評価委員会分科会の公開について(案)
資料2-2 研究評価委員会関係の公開について
資料2-3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘について
資料2-4 研究評価委員会分科会における非公開資料の取り扱いについて
資料3-1 NEDOにおける研究評価について
資料3-2 技術評価実施規程
資料3-3 評価項目・評価基準
資料3-4 評点法の実施について(案)
資料3-5 評価コメント及び評点票(案)
資料4   評価報告書の構成について(案)
資料5-1 プロジェクトの概要説明資料
資料5-2 事業原簿(公開)
資料5-3 事業原簿(非公開) (非公開)
資料6-1-1  プロジェクトの詳細説明(非公開)
次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発(委託事業)
・研究開発成果 について

資料6-1-2-1 プロジェクトの詳細説明(非公開)
次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発(委託事業)
・実用化に向けての見通し及び取り組みについて(JAPERA)

資料6-1-2-2 プロジェクトの詳細説明(非公開)
次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発(委託事業)
・実用化に向けての見通し及び取り組みについて(コニカミノルタ株式会社)

資料6-1-2-3 プロジェクトの詳細説明(非公開)
次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発(委託事業)
・実用化に向けての見通し及び取り組みについて(リンテック株式会社)

資料6-1-2-4 プロジェクトの詳細説明(非公開)
次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発(委託事業)
・実用化に向けての見通し及び取り組みについて(東洋紡株式会社)

資料6-1-2-5 プロジェクトの詳細説明(非公開)
次世代プリンテッドエレクトロニクス材料・プロセス基盤技術開発(委託事業)
・実用化に向けての見通し及び取り組みについて(ソニー株式会社)

資料6-2-1  プロジェクトの詳細説明(非公開)
印刷技術による電子ペーパーの開発(助成事業)
・高反射型カラー電子ペーパーの開発(株式会社リコー)

資料6-2-2  プロジェクトの詳細説明(非公開)
印刷技術による電子ペーパーの開発(助成事業)
・大面積軽量単色電子ペーパーの開発(凸版印刷株式会社)

資料6-3   プロジェクトの詳細説明(非公開)
印刷技術によるフレキシブルセンサの開発(助成事業)
・大面積圧力センサの開発(大日本印刷株式会社)
(非公開)
資料7   今後の予定

その他資料

資料名 ファイル名
議事要旨
議事録
現地調査会議事要旨