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第29回研究評価委員会

2012年3月16日

委員会概要

日時	平成23年10月14日（金）13時15分～15時45分
場所	川崎日航ホテル「藤＆楓の間」

資料

配布資料

資料1-1	第28回研究評価委員会議事録（204KB）
資料1-2	第28回研究評価委員会における主なコメント（84KB）
資料2	研究評価委員会名簿及び分科会会長名簿（今回審議案件）（118KB）
資料3-1	平成23年度中間・事後評価　第29回研究評価委員会〈審議対象プロジェクトの総合評価一覧〉（227KB）
資料3-2-1	「革新型蓄電池先端科学基礎研究事業」中間評価報告書（案）概要（758KB）
資料3-3-1	「次世代輸送系システム設計基盤技術開発」事後評価報告書（案）概要（1.57MB）
資料3-3-2	「次世代半導体材料・プロセス基盤（MIRAI）プロジェクト」事後評価報告書（案）概要（1.62MB）
資料3-3-3	「微生物機能を活用した環境調和型製造基盤技術開発／微生物機能を活用した高度製造基盤技術開発」事後評価報告書（案）概要（1.25MB）
資料4-1	平成23年度中間・事後評価　第29回研究評価委員会〈報告対象プロジェクトの総合評価一覧〉（278KB）
資料4-2-1	「グリーン・サステナブルケミカルプロセス基盤技術開発／資源生産性を向上できる革新的プロセス及び化学品の開発／副生ガス高効率分離・精製プロセス基盤技術開発」中間評価報告書（案）概要（1.58MB）
資料4-2-2	「グリーン・サステナブルケミカルプロセス基盤技術開発／資源生産性を向上できる革新的プロセス及び化学品の開発／触媒を用いる革新的ナフサ分解プロセス基盤技術開発」中間評価報告書（案）概要（807KB）
資料4-2-3	「グリーン・サステナブルケミカルプロセス基盤技術開発／資源生産性を向上できる革新的プロセス及び化学品の開発／規則性ナノ多孔体精密分離膜部材基盤技術の開発」中間評価報告書（案）概要（925KB）
資料4-3-1	「先端的SoC製造システム高度制御技術開発」事後評価報告書（案）概要（484MB）
資料4-3-2	「発電プラント用超高純度金属材料の開発」事後評価報告書（案）概要（657MB）
資料4-3-3	「新機能創出ガラスの加工技術開発プロジェクト／三次元光デバイス高効率製造技術」事後評価報告書（案）概要（2.01MB）
資料4-3-4	「新機能創出ガラスの加工技術開発プロジェクト／次世代光波制御材料・素子化技術」事後評価報告書（案）概要（1.28MB）
資料5	平成23年度分科会の設置について〈一部変更〉（案）（126KB）
資料6	平成24年度分科会の設置について（119KB）
参考資料	平成23年度中間及び事後評価対象事業評点結果一覧（133KB）

その他資料

議事録（387KB）

議事次第（90KB）

座席表（371KB）