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決定「次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発」に係る実施体制の決定について

2022年5月27日

国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(以下「NEDO」という。)は、「次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発」に係る公募を実施し、ご提案いただいた1件の提案について厳正な審査を行い、以下のとおり実施予定先を決定いたしました。なお、採択審査委員一覧は資料1の通りです。

1.件名

「次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発」

2.事業概要

本プロジェクトでは、今後成長が期待される電子部品等のファインセラミックス分野における国際的な競争力強化のため、これまで行われてきた「経験と勘」に基づく製造プロセス開発に代わり、ファインセラミックスの一連の工程を対象とした製造プロセス技術と計算科学の融合・連携によるプロセス開発基盤を構築するとともに、プロセス開発基盤を活用した企業における実用化を支援します。

3.実施予定先

  • 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 一般財団法人ファインセラミックスセンター
  • 株式会社村田製作所
  • 京セラ株式会社
  • 太陽誘電株式会社
  • AGC株式会社
  • 日本ガイシ株式会社
  • TOTO株式会社
  • 株式会社ノリタケカンパニーリミテド

4.事業期間

  • 研究開発項目〔1〕:2022年度~2026年度
  • 研究開発項目〔2〕:2024年度~2026年度

詳細資料

募集要項

技術・事業分野 材料・部材 プロジェクトコード P22005
事業名 次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発
事業分類 研究(委託、共同研究、助成)
対象者 企業(団体等を含む)、大学等
問い合わせ先 材料・ナノテクノロジー部
担当者:高宮、三宅
E-MAIL:ceramics@ml.nedo.go.jp

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