第1回「後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発」(中間評価)分科会
2012年11月2日
委員会概要
| 日時 | 平成24年7月9日（月） 10時00分～18時00分 |
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| 場所 | WTCコンファレンスセンター RoomA (世界貿易センタービル3F) |
| 担当部室 | 評価部 |
| FAX | 044-520-5162 |
| 公開の可否 | 原則公開 |
| プロジェクトコード | P10005 |
資料
配布資料
| 資料名 | ファイルダウンロード |
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| 議事次第 |
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| 資料1-1 研究評価委員会分科会の設置について 資料1-2 NEDO技術委員・技術委員会等規程 |
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| 資料2-1 研究評価委員会分科会の公開について（案） 資料2-2 研究評価委員会関係の公開について 資料2-3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘について 資料2-4 研究評価委員会分科会における非公開資料の取り扱いについて |
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| 資料3-1 NEDOにおける研究評価について 資料3-2 技術評価実施規程 資料3-3 評価項目・評価基準 資料3-4 評点法の実施について（案） 資料3-5 評価コメント及び評点票（案） |
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| 資料4 評価報告書の構成について（案） |
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| 資料5-1 事業原簿（公開） |
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資料5-2 事業原簿（非公開） |
(非公開)
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資料5-3 プロジェクトの概要説明資料（公開） |
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資料6-1～6-3 プロジェクトの詳細説明資料（非公開） |
(非公開)
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資料7 今後の予定 |
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その他資料
| 資料名 | ファイルダウンロード |
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| 議事要旨 |
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| 議事録 |
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