第23回研究評価委員会

委員会概要

開催地
日時	平成21年10月29日（木）13時15分～ 16時50分
場所	川崎日航ホテル 12階東の間

資料

配布資料
資料1-1	第22回研究評価委員会議事録（71KB）
資料1-2	第22回研究評価委員会における主なコメント（106KB）
資料2	研究評価委員会名簿（111KB）
資料3-1	平成21年度中間・事後評価　第23回研究評価委員会　審議対象プロジェクトの総合評価一覧（243KB）
資料3-2-1	「希少金属代替材料開発プロジェクト」中間評価報告書（案）概要（1.2MB）
資料3-2-2	「次世代自動車用高性能蓄電システム技術開発　」中間評価報告書（案）概要（0.98MB）
資料3-2-3	「創薬加速に向けたタンパク質構造解析基盤技術開発」中間評価報告書（案）概要（758KB）
資料3-2-4	「次世代ロボット知能化技術開発プロジェクト」中間評価報告書（案）概要（1.45MB）
資料4-1	平成21年度中間・事後評価　第23回研究評価委員会報告対象プロジェクトの総合評価一覧（383KB）
資料4-2-1	「戦略的先端ロボット要素技術開発プロジェクト」中間評価報告書（案）概要（993KB）
資料4-2-2	「水素貯蔵材料先端基盤研究事業」中間評価報告書（案）概要（1.08MB）
資料4-2-3	「革新的ノンフロン系断熱材技術開発プロジェクト」中間評価報告書（案）概要（566KB）
資料4-2-4	「高性能ハイパースペクトルセンサ等研究開発プロジェクト」中間評価報告書（案）概要（500KB）
資料4-2-5	「マルチセラミックス膜新断熱材料の開発」中間評価報告書（案）概要（2.3MB）
資料4-2-6	「戦略的石炭ガス化・燃焼技術開発」中間評価報告書（案）概要（640KB）
資料4-2-7	「構造活性相関手法による有害性評価手法開発」中間評価報告書（案）概要（769KB）
資料4-2-8	「高機能複合化金属ガラスを用いた革新的部材技術開発」中間評価報告書（案）概要（813KB）
資料4-2-9	「次世代大型低消費電力液晶ディスプレイ基盤技術開発」中間評価報告書（案）概要（684KB）
資料4-2-10	「ナノエレクトロニクス半導体新材料・新構造ナノ電子デバイス技術開発」中間評価報告書（案）概要（766KB）
資料4-2-11	「次世代大型低消費電力プラズマディスプレイ基盤技術開発」中間評価報告書（案）概要（571KB）
資料4-2-12	「化学物質の最適管理をめざすリスクトレードオフ解析手法の開発」中間評価報告書（案）概要（841KB）
資料4-2-13	「ナノエレクトロニクス半導体新材料・新構造技術開発 ―窒化物系化合物半導体基板・エピタキシャル成長技術の開発―」中間評価報告書（案）概要（1.16MB）
資料4-3-1	「高耐久性メンブレン型ＬＰガス改質装置の開発」事後評価報告書（案）概要（809KB）
資料4-3-2	「中小企業基盤技術継承支援事業」事後評価報告書（案）概要（987KB）
資料4-3-3	「次世代高度部材開発評価基盤の開発」事後評価報告書（案）概要（810KB）
資料5	平成20年度中間評価実施プロジェクト評価結果の反映状況について（109KB）
資料5別紙	平成21年度プロジェクト中間評価結果反映概要（189KB）
資料6	平成21年度プロジェクト評価結果取り纏め状況等（前半）（342KB）
資料6別紙1	平成21年度分科会の進捗状況（88KB）
資料6別紙2	平成21年度中間・事後評価結果一覧（前期附議分）（406KB）
資料7	平成21年度追跡調査・評価の実施状況について（127KB）
資料7別紙1	平成21年度の「追跡調査・評価分科会」の審議予定と調査内容（560KB）
資料8	平成22年度分科会の設置について（79KB）
参考資料1	平成21年度中間及び事後評価対象事業評点結果一覧（138KB）
参考資料2	平成21年度評価対象プロジェクト一覧（90KB）

その他資料

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