研究評価委員会「次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発」（中間評価）分科会
2024年6月3日
| 2024年7月16日 | 議事録を追加掲載しました。 |
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委員会概要
| 日時 | 2024年6月18日（火）10時00分～16時25分 |
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| 場所 | ステーションコンファレンス川崎 A～C会議室（オンラインあり） |
| プロジェクトコード | P22005 |
資料
| 資料名 | ファイル名 |
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| 議事次第 |  議事次第（89KB） |
| 資料1 研究評価委員会分科会の設置について | 資料1（106KB） |
| 資料2 研究評価委員会分科会の公開について | 資料2（103KB） |
| 資料3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘と非公開資料の取り扱いについて | 資料3（244KB） |
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資料4一式（1.3MB） |
| 資料5-1 プロジェクトの説明資料（公開） | 資料5-1（3.8MB） |
| 資料5-2 プロジェクトの詳細説明資料（公開） | 資料5-2（3.6MB） |
| 資料6 プロジェクトの補足説明（非公開） | （非公開） |
| 資料7-1 事業原簿（公開） | 資料7-1（8.6MB） |
| 資料7-2 事業原簿（非公開） | （非公開） |
| 資料8 評価スケジュール | 資料8（87KB） |
その他資料
| 資料名 | ファイル名 |
|---|---|
| 議事録 | 議事録（1.2MB） |
問い合わせ先
| 担当 | 事業統括部 研究評価課 |
|---|---|
| eval_dist@nedo.go.jp |