「次世代半導体微細加工・評価基盤技術の開発」(事後評価)分科会
2016年7月5日
平成28年10月6日 | 資料5-1、資料6-1を差替えました。 |
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平成28年8月5日 | 資料5-1、資料6-1を追加掲載しました。 |
平成28年7月20日 | 議事録を追加掲載しました。 |
委員会概要
日時 | 平成28年6月21日(火) 9時30分~18時00分 |
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場所 | 大手町サンスカイルームA室 (朝日生命大手町ビル27階) |
プロジェクトコード | P10025 |
資料
資料名 | ファイル名 |
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議事次第 |
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資料1 研究評価委員会分科会の設置について |
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資料2 研究評価委員会の公開について |
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資料3 研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘と非公開資料の取り扱いについて
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資料4-1 NEDOにおける研究評価について 資料4-2 評価項目・評価基準 資料4-3 評点法の実施について 資料4-4 評価コメント及び評点票 資料4-5 評価報告書の構成について |
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資料5-1 事業原簿(公開) |
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資料5-2 事業原簿(非公開) | (非公開) |
資料6-1 プロジェクトの概要説明資料(公開) |
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資料6-2 プロジェクトの概要説明資料(非公開) | (非公開) |
資料7 成果の実用化・事業化に向けた取り組み及び見通しについて(非公開) | (非公開) |
資料8 今後の予定 |
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参考資料1 NEDO技術委員・技術委員会等規程 |
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参考資料2 技術評価実施規程 |
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その他資料
問い合わせ先
資料5~資料7について
IoT推進部 FAX 044-520-5212
上記以外について
評価部 FAX:044-520-5162